四川PVD涂層廠家告訴你較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍的兩種方式。多弧鍍設備結構簡單,容易進行操作。它的離子蒸發源靠電焊機電源。
PVD 是英文“Physical Vapor Deposition”的縮寫形式,意思是物理氣相沉積。我們現在通常把真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子鍍等都稱為物理氣相沉積。
PVD涂層告訴你插電即可工作,其引弧的過程也與電焊類似,具體地說,在一定工藝氣壓下,引弧針與蒸發離子源短暫接觸,斷開,使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑,在蒸發源表面上連續形成熔池,使金屬蒸發后,沉積在基體上而得到薄膜層的,與磁控濺射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金屬離子離化率高,薄膜與基體之間結合力強的優點。
此外,PVD涂層告訴你多弧鍍涂層顏色較為穩定,尤其是在做 TiN 涂層時,每一批次均容易得到相同穩定的金黃色,令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是,在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下,當涂層厚度達到0.3μm 時,沉積率與反射率接近,成膜變得十分困難。
PVD 是英文“Physical Vapor Deposition”的縮寫形式,意思是物理氣相沉積。我們現在通常把真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子鍍等都稱為物理氣相沉積。
PVD涂層告訴你插電即可工作,其引弧的過程也與電焊類似,具體地說,在一定工藝氣壓下,引弧針與蒸發離子源短暫接觸,斷開,使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑,在蒸發源表面上連續形成熔池,使金屬蒸發后,沉積在基體上而得到薄膜層的,與磁控濺射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金屬離子離化率高,薄膜與基體之間結合力強的優點。
此外,PVD涂層告訴你多弧鍍涂層顏色較為穩定,尤其是在做 TiN 涂層時,每一批次均容易得到相同穩定的金黃色,令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是,在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下,當涂層厚度達到0.3μm 時,沉積率與反射率接近,成膜變得十分困難。
PVD涂層大約在八十年代中后期,發現了熱陰極電子槍蒸發離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機,應用效果非常好,使TiN 涂層刀具很快得到普及性的應用。其中熱陰極電子槍蒸發離子鍍,利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料,利用鉭燈絲給工件加熱、除氣,利用電子槍增強離化率,不僅可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂層,而且其結合力、耐磨性均有不俗表現,甚至用打磨的方法都難以除去。但是這些設備都只適合于 TiN涂層,或純金屬薄膜。對于多元涂層或復合涂層,則力不從心,難以適應高硬度材料高速切 削以及模具應用多樣性的要求。
中科??萍脊緭碛幸慌趪膺M行過長期技術培訓的精密研磨和PVD/DLC涂層工藝技術人員,能夠為客戶的產品定制優質優的表面改性工藝方案。